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除了常規的xps設置，有時候我們還需要用到表面清潔和刻蝕技術。
xps是表面分析技術，一般分析10nm以內甚至更淺的樣品信息。
但是如果樣品表面被輕微污染了，想把表面污染碳等清理掉測試樣品的信息，可以嘗試做表面清潔，當然有可能在表面清潔的過程中會出現還原現象，這是一定要注意的。
如果想知道樣品隨深度的變化，就要用到刻蝕了。刻蝕和表面清潔有相似之處，也有不同。
比如除了常規的清潔，有些小夥伴只想看刻蝕某一個深度或者某一段時間後的譜圖，如果用刻蝕的方法來採集數據，就必須採集表面的數據，但是用清潔的方法，則可以只採集刻蝕後的數據，採集數據的時間會大大降低。
這幾周我們將整理大概五個教程來介紹。
主要內容如下：
表面清潔的參數設置方法-1（鏈接）；
表面清潔的參數設置方法-2(鏈接)；
表面清潔的程序優化(鏈接)；
刻蝕樣品的兩種方法（與1，2操作類似）；
延時功能在常規xps測試中的應用；
。。。
前面我們介紹表面清潔的程序設置的方法，與表面清潔類似，刻蝕的設置也可以參考表面清潔，但是對於刻蝕來說，wait程序並不是必須的，因為刻蝕的參數設置界面就可以直接設置delayafter etch，相當於表面清潔中的wait程序，以便保證樣品表面穩定後再測試。
一般用不上，不建議訂閱合集。所有付費教程請點鏈接（8月以前）
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南開大學胡金牛教授的簡歷火了

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光催化學術QQ群：582590624

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