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第一作者:Shuaihua Zhang

通訊作者:Xingtao Xu, Yusuke Yamauchi

通訊單位:日本國立材料研究所,澳大利亞昆士蘭大學

論文DOI:10.1039/d1mh01882e



研究背景

電容去離子(CDI)技術作為一種有前景的脫鹽技術,得到廣泛關注。多孔碳具有高孔隙率和良好的導電性,多年來一直是CDI電極材料的首選。然而,大多數碳通常在天然(含氧)鹽水中具有低鹽吸附容量和差的循環穩定性,從而限制了CDI的發展。在這種情況下,二維(2D)過渡金屬碳化物和氮化物,統稱為MXenes,由於高電化學容量、優異的導電性、良好的可逆離子嵌入/脫嵌及具有大量路易斯酸Ti位點和–OH(–F,–O等)等官能團,在CDI和其他能量存儲裝置中的各種電化學界面方面受到越來越多的關注。然而,MXene納米片由於相鄰納米片之間強烈的范德華相互作用,通常會不可避免地發生聚集和自重新堆積,並且由於周圍環境中水和氧的相互作用,在天然鹽水中也表現出差的穩定性,這大大限制了它們在CDI應用中的性能和壽命。有鑑於此,日本國立材料研究所Xingtao Xu團隊和澳大利亞昆士蘭大學Yusuke Yamauchi團隊通過構建、優化MXene@COF二維異質界面,MXene提高COF納米結構導電性,外部COF層防止MXene納米片重新堆積和被氧化,更重要的是,COF中具有氧化還原活性的DAAQ單體提供較短的離子擴散路徑和額外的氧化還原吸附位點,因而展現了優異的電容去離子脫鹽性能和良好的循環穩定性。相關成果發表在國際期刊Materials Horizons上。


圖文導讀

材料的構效關係

通過氫鍵將DAAQ修飾到MXene片上,得到單分散的DAAQ-官能化的MXene(MXene-NH2),隨後,通過Schiff鹼縮合反應將DAAQ與TFP形成共價橋連,使DAAQ-TFP-COF納米陣列垂直錨定在MXene–NH2的表面上,從而最終得到MXene@COF夾層納米結構。

SEM和TEM測試清楚地揭示了COF納米陣列垂直錨定在MXene薄片的兩側,形成具有保存良好的異質界面的核殼結構。

FTIR測試表明MXene納米片的官能團和COF的DAAQ基團之間可能通過氫鍵橋連;XRD測試表明MXene的(002)衍射峰從原始的7.2移動到MXene@COF異質結構的6.34,表明在MXene-COF異質界面形成後增加了層間間距;N2吸附-脫附等溫線表明MXene-COF異質結構比表面積高達424 m2 g-1,而純的MXene只有155 m2 g-1,且MXene-COF具有微孔、介孔分布的分級多孔結構,有利於離子的傳輸和吸附。

材料的電化學性能

電化學測試表明,MXene@COF異質結構的CV曲線出現了一對準可逆的氧化還原峰,表明DAAQ基團為MXene@COF異質結構提供了良好的可逆捕獲/釋放鈉離子的活性位點,恆流充放電測試表明異質結構提供了最高的電荷容量。

材料的脫鹽性能

脫鹽測試表明,MXene@COF異質結構展現了最高的脫鹽容量,達到53.1 mg g-1(1000 mg L-1,1.6 V),在100次循環測試中,脫鹽容量保持率在90%以上,展現了優異的結構穩定性。

文獻鏈接:
https://doi.org/10.1039/d1mh01882e

聲明:

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