鑽石舞台

1、電磁兼容（EMC）：可使電氣裝置或系統在共同的電磁環境條件下，既不受電磁環境的影響，也不會給環境造成這種影響。

2、半電波暗室（Semi-anechoic Chamber）：除地面安裝反射接地平板外，其餘內表面均安裝吸波材料的屏蔽室。

3、電磁干擾（EMI）：騷擾引起的設備、傳輸通道或系統性能的下降。

4、輻射發射（Radiate Emission）：能量以電磁波形式由源發射到空間的現象， 有時也稱為輻射騷擾。

5、傳導發射（Conduct Emission）：能量以電壓或電流的形式由導電介質從一個源傳導到另一介質的現象，有時也稱為傳導騷擾。

6、傳導干擾（Conduct Interference）：能量以電壓或電流騷擾的形式引起的設備、傳輸通道或系統性能的下降。

7、輻射干擾（Radiate Interference）：能量以電磁波騷擾的形式引起的設備、 傳輸通道或系統性能的下降。

8、電磁敏感性（EMS）：在存在電磁騷擾的情況下，裝置、設備或系統不能避免性能降低的能力。

9、靜電放電（ESD）：具有不同靜電電位的物體相互靠近或直接接觸引起的電荷轉移。

10、騷擾抑制（Disturbance Suppression）：削弱或消除騷擾的措施。

11、干擾抑制（Interference Suppression）：削弱或消除干擾的措施。

12、瞬態（Transient）：在兩相鄰穩定狀態之間變化的物理量與物理現象，其變化時間小於所關注的時間尺度。

13、脈衝（Pulse）：在短時間內突變，隨後又迅速返回其初始值的物理量。

14、脈衝的上升時間（Rise time of a Pulse）：脈衝瞬時值首次從給定下限值上升到給定上限值所經歷的時間。

15、上升沿（Rise）：一個量從峰值的10％～90％所需的時間。

16、脈衝噪聲（Pmpulsive Noise）：在特定設備上出現的、表現為一連串清晰脈衝或瞬態的噪聲。

17、脈衝騷擾（Impulsive Disturbance）：在某一特定裝置或設備上出現的、表現為一連串清晰脈衝或瞬態的電磁騷擾。

18、電源騷擾（Mains-borne Disturbance）：經由供電電源線傳輸到裝置上的電磁騷擾。

19、電源抗擾度（Mains Immunity）：對電源騷擾的抗擾度。

20、電源去耦（Main Decoupling）：施加在電源某一規定位置上的電壓與施加在裝置規定輸入端且對裝置產生同樣騷擾效應的電壓值之比。

21、殼體輻射（Cabinet Radiation）：由設備外殼產生的輻射，不包括所接天線或電纜產生的輻射。

22、耦合（Coupling）：在給定電路中，電磁量（通常是電壓或電流）從一個規定的位置通過磁場、電場、電壓、電流的形式傳輸到另一個規定的位置。

23、耦合路徑（Coupling Path）：部分或全部電磁能量從規定路徑傳輸到另一電路或裝置所流過的路徑。

24、屏蔽（Screen）：用來減少場向指定區域穿透的措施。

25、電磁屏蔽（Electromagnetic Screen）：用導電材料減少交變電磁場向指定區域穿透的的屏蔽。

26、線性阻抗穩定網絡（Line Impedance Stabilization Network，LISN）：能在射頻範圍內，在EUT端子與參考地之間，或端子之間提供一穩定阻抗，同時將來自電源的無用信號與測量電路隔離開來，而僅將EUT的干擾電壓耦合到接收機的輸入端。

27、被測設備（Equipment Under Test，EUT）：被測試的設備。

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