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TOPCON 電池主要分 LPCVD,PECVD,PVD 三種路線,步驟在 12 步左右。制絨(捷佳偉創,金舟)。

硼擴(拉普拉斯做的最好,北方華創,捷佳偉創也會做),背面鹼拋光(捷佳偉創,金舟)。

背面隧穿氧化層和多晶硅層沉積(LPCVD,PECVD,PVD 三種路線),LPCVD 先通過熱氧化方式長 1-1.5nm 的遂穿氧化層,再長本徵非晶硅層,結合磷擴散,形成摻雜多晶硅層。PECVD先用 PECVD 方式長 1-1.5nm 的遂穿氧化層,再長摻雜非晶硅層,厚度約為 100-150nm 之間。

PVD 方式和 PECVD 差不多。LPCVD 做的最好的是拉普拉斯,PECVD 做的比較好的是捷佳偉創和紅太陽兩家,北方華創和金辰其次,紅太陽的設備在通威,晶澳,中來都有在試用 demo機,PEALD 微導在做,由於隧穿氧化層通過有機硅的方式實現生長,成本會更高,PEALD 這條路線未來不會選擇。PVD 中來在做。

退火,讓摻雜非晶硅層晶華,形成摻雜多晶硅。磷從非激活態變成激活態

刻蝕清洗,鏈式設備把表面 PSG 去掉,再通過鹼刻蝕把正面繞鍍的多晶硅去掉,然後做槽式清洗,把正面的 BSG 掩膜,背面 PSG 掩膜去掉(捷佳偉創,金舟等)

正面氧化鋁鈍化,管式 ALD(捷佳,微導)或板式 ALD(理想)。正背面氮化硅鈍化,管式 PECVD(捷佳,紅太陽)

絲網印刷,在正背面形成金屬化電極(邁為,科隆威,捷佳偉創)電注入或光注入(邁為,奧特維,科隆威)

測試分選(邁為等)

Q:TOPCON 電池價格

A:TOPCON 電池溢價在 0.1 元/W,PERC 電池 1.3 元/W,TOPCON 電池 1.4 元/W。組件端 TOPCON

組件比 PERC 組件高 0.1 元/W 的溢價。

Q:TOPCON 降本

A:TOPCON 成本比 TOPCON 高 0.04 元/W。PECVD 與 LPCVD 相比,成本會低 0.01 元/W,成本優勢主要在石英件耗材較少節省 0.005 元/W,設備投資較低,PECVD 加退火的方式比 LPCVD 本徵加磷擴的方式節省 0.007 元-0.008 元/W。其次是金屬化,目前 TOPCON 量產銀漿耗量在 14-16mg/W 的水平,晶科目前 182 整片在 14mg/W 的銀耗,未來可以通過網板優化,漿料優化降低銀耗,銀漿耗量有望做到 9-10mg/W,目前 PERC 是 8-9mg/W。硅片目前用 150,160微米的厚度,明年應該能做到 140 微米,再往薄做會很難。設備投資目前 1.5-1.7 億/GW,

TOPCON 技術路線掌握在電池廠手裡,比 PERC 高 4000-5000 萬,未來還有持續降本的空間,去年是 1.9 億/GW,降幅較大。

Q:TOPCON 效率提升

A:激光 SE,導入 SE 需要增加激光 SE 設備投入,目前可以提效 0.2%,後期做到 0.3-0.4%的效率提升還是有可能的。背面 POLY 硅厚度優化,漿料改進,硅片質量改善等都有可能提升,今年晶科量產做到 24.8-24.9%沒問題,明年量產在在年底做到 25.5%以上沒問題

Q:TOPCON 良率

A:晶科可以做到 98%以上的良率,晶科卡的不嚴,通威卡的嚴,行業良率在 96%左右,比

PERC 低 2-3%,還有很大的提升空間。

Q:TOPCON 後續落地產能和擴產節奏

A:今年 80GW 有點難,60GW 沒問題。晶科已經有 16GW,還有 8GW,總計 24GW。中來一期 4GW

加泰州 3.6GW,接近 8GW。天合宿遷有 8GW 要投,晶澳已經有 1.3GW,6GW 在招標,一道有

6GW,鈞達有 8GW,阿特斯有 6GW。這兩年的規劃(2024 年之前)已經超過 160GW。

Q:TOPCON 組件價格

A:PERC 在 1.9-2.0 元之間,TOPCON 在 2.06-2.10 之間,HJT 比 TOPCON 略高一點在 2.10 元

/W 以上。HJT 和 TOPCON 之間效率差不多,組件功率高 4-5W,沒什麼溢價。

Q:HJT 情況

A:銀耗在 23-25mg/W,目前研發做到 20mg/W,比 TOPCON12mg/W 還高很多。硅片 130 微米硅片沒問題,但如果再往下做明年也不一定樂觀。設備投資上正背面改微晶可以提 0.7-0.8%的效率,比 TOPCON 會有 0.5%的效率優勢,到明年底 HJT 中試可能還會有 26%的效率出現。銀包銅到今年年底有可能上,但薄片化有碎片率高的問題,激光轉印技術也沒有這麼快,還需要持續降本。150 微米 HJT 良率在 99%以上,130 微米 HJT 良率在 98%以上接近 99%。今年年底之前做到130 微米沒什麼問題。但120 微米以下碎片率會高很多,後面會上但沒那麼快,今年比較難。

Q:PE-POLY 路線能否成為主流

A:晶科 20 多 GW 全是 LPCVD 路線,一道也是 LPCVD 路線,捷泰一期 8GW 選擇 LPCVD,二期

8GW 可能會選擇 PECVD,LPCVD 是比較穩妥的方案,後期下單比較多的通威 8GW,天合 8GW,潤陽 10GW 改造,晶澳 1.3GW+6GW 招標都是 PECVD,但 PECVD 沒有大規模跑片不知道是不是有問題。但 PECVD 原位摻雜的方式可以把 POLY 做薄,均勻性,摻雜濃度相比於 LPCVD 有優勢,效率會較高,此外 PECVD 的產能 6 管可以做到 6800 片/h 的產能,比 LPCVD4000 片/h的產能大很多,另外 PECVD 用的是石墨舟不存在石英舟損耗的問題。後面投的公司主要還是看重 PECVD 的成本優勢,目前天合可以做到和 LP 持平,其他家做 PECVD 路線效率比 LPCVD也會稍差一些。目前落地的產能 LP 和 PE 是 64 開,未來 PE 路線會更樂觀。

Q:硼擴 SE

A:目前 SE 晶科在做,其他幾家都沒在做,不知道晶科進展如何,效率有 0.2%的提升,良率未知。對應價值量 2500 萬/GW,費用較大,技術也不是很成熟,目前投產不太會上這個技術路線。當前的經濟性不高。

Q:激光設備廠商

A:和帝爾合作做激光 SE,目前無進展,直摻很難做,如果做二次摻雜難度不大。

Q:PEALD 與 PECVD 比較

A:PEALD 用有機硅為原材料比 PECVD 用笑氣更高,均勻性兩者差不多,通威以前 1GW 都用

PEALD,現在全部改為 PECVD,尚德也用了 2GW 的 PEALD 設備,專家的公司以前用 PEALD 但現在也改用 PECVD,未來 PEALD 沒有優勢

Q:PVD 的優缺點

A:優點是無繞鍍,產能更大,良率更高。缺點是機台開機率低,需要經常維護,此外效率較低(中來實際量產效率 24.3%),設備投資成本更多,占地面積更大。PVD 為了防止背面邊緣不漏電有 0.7-0.8mm 不做鈍化,效率會有所損失,其次 PVD 轟擊會有損傷,鈍化會更差,效率有所損傷。目前 PVD 只有中來在用,但如果 TOPCON 電池可以做薄,PVD 方式會更有優勢。

Q:鈣鈦礦

A:三四年內看不到,鈣鈦礦處在很早的階段,目前穩定性,光衰,紫外線分解等問題都沒有得到解決,真正大規模量產還很早。後期可能晶硅電池和鈣鈦礦電池做疊層,但沒這麼快。

Q:HJT 超過 TOPCON

A:至少要過兩年左右,需要用電鍍銅,銀包銅等新技術把成本將下來,從今明兩年來看,成本還是很難往下降。從疊層電池來看 HJT 和鈣鈦礦都是低溫製程相比 TOPCON 會更容易。

Q:細柵線

A:TOPCON 正面細柵線寬 25 微米左右,HJT 在 35 微米左右,用鋼板印刷 HJT 可以做到 27

微米線寬,TOPCON 可以做到 20 微米。

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