隨着俄烏衝突的繼續進行，英特爾、AMD、台積電等科技巨頭已經停止了對俄羅斯的芯片銷售，對於其半導體產業而言無疑是滅頂打擊。不過，俄羅斯沒有選擇坐以待斃，由於無法從往常的供應商那裡購得芯片，所以正在制定計劃重振陷入困境的本地半導體製造。近日，據外媒報道，俄羅斯披露了一項全新的芯片開發戰略，涉及到未來 8年的巨額投資，但實現目標似乎並不那麼雄心勃勃。俄羅斯希望到2030年實現28nm本地芯片製造，與之相比，台積電計劃在2026年推出強大的2nm芯片。
目前，俄羅斯政府已經制定全新微電子開發計劃的初步版本，預計到2030年投資3.19萬億盧布（約合384.3億美元）。這筆資金將用於開發本地半導體生產技術、國內芯片開發、數據中心基礎設施、本土人才的培養以及自製芯片和解決方案的市場推廣。在半導體製造方面，俄羅斯計劃投資 4200 億盧布（約合 50億美元）用於開發新的製造工藝和後續改進。短期目標之一是在今年年底前使用90nm製造工藝提高本地芯片產量。更長期的一個目標是到 2030 年實現 28nm的芯片工藝製造，而台積電2011年就做到了這點。
在基礎設施方面，俄羅斯現有數據中心大約70個。該計劃預計投資4600億盧布（約合55億美元），到2030年預計全國數據中心增加到300個。在人才培養方面，該計劃預計投資3090億盧布（約合37億美元），用於開發至少400個新型電子產品原型，並開展 2000多個研究項目。計劃制定者還希望將國內高校畢業生的「人才轉換」比例從當前的 5% 提升到35%。此外，計劃還包括在現有和新成立的高校設計培養中心基礎上創建至少1000個設計團隊。雖然俄羅斯在軟件和高技術服務領域歷來非常成功，但在芯片設計和製造方面算不上成功。雖然總體計劃是培養本地人才和開發芯片，但俄羅斯打算在年底之前建立一個針對「國外解決方案」的逆向工程項目，將相關製造轉移到國內。因此到2024年，所有數字產品都應該在國內生產。俄羅斯的微電子開發計劃看似包含了很多項目並設定了一些目標，但應注意到，將相當一部分重要的芯片製造完成本地化絕非易事。對於當前無法使用美國、英國或歐洲技術的俄羅斯而言，能否在2024年或2030年之前完成設定的目標尚未可知。該計劃預計將於2022年4月22日敲定並提交俄羅斯總理正式批覆。在更早的新聞中，俄羅斯在被美國全方位芯片卡脖子後，決定從頭開始造光刻機 。據Zelenograd報道，俄羅斯政府將投資 6.7 億盧布（約合5100萬元人民幣）以促進對 X 射線光刻機的研究，並號稱該款光刻機工藝可以達到EUV級別。相較之下，ASML去年在研發中的投入為25億歐元（約172億人民幣）。俄羅斯莫斯科電子技術學院（MIET）已經接下了這筆來自貿工部的資金，以推進其開發基於 X 射線同步加速器以及等離子體源的無掩模光刻機的計劃。最終，這些機器有望用於加工28nm、16nm及更小的半導體晶圓。
西方制裁正在給俄羅斯造成沉重打擊，不僅是日常產品，還有當地工業需要的半導體。上個月末，俄羅斯政府決定向當地研究機構提供大量資金，以開發對本國半導體企業至關重要的機械設備。總部位於荷蘭的 ASML是目前世界上唯一使用極紫外光的光刻機製造商。為了駕馭極紫外光的力量並將EUV光刻技術推向市場，ASML持續投入研發20多年，以應對不斷出現的高難度技術挑戰，目前它是世界各地先進晶圓廠的核心設備。台積電、三星和英特爾等公司都在為了自家芯片的發展爭奪這些光刻機，但在先進技術制裁名單上的一些國家是不允許購買這些產品，例如俄羅斯。
圖源：https://www.asml.com/zh-cn/technologyASML 研發的光刻機是極紫外光（EUV），波長為13.5nm，而俄羅斯計劃開發的光刻機X射線技術的波長介於 0.01 nm到10nm之間，比EUV極紫外光還要短，因此光刻分辨率要高很多。同時，基於X射線製成的光刻機還有另一個顯著優點——可以直寫光刻，不需要光掩模就能生產芯片。正因為有這兩個特點，俄羅斯要研發的X射線光刻機優勢很大，甚至被當地的媒體宣傳為全球都沒有的光刻機，ASML 也做不到。不過，有消息人士指出，俄羅斯早年間就參與了EUV光刻技術的發展。2010年，ASML生產第一台EUV光刻機時，俄羅斯一個物理研究所 IPM（RAS）也在開發EUV的系統及元件，以及裝置原型的搭建。其中，開發人員還提出了輻射源設計的原始解決方案，部分還應用到了ASML光刻機上。但是這個項目在布局階段就結束了。俄羅斯關於光刻機技術的研究可追溯到1980年代中期，俄羅斯開始研發同步加速器X射線輻射源。這項技術顯然是由有遠見的科學家為滿足微電子處理的需要而開發的，但計劃並未得到實施。不過，俄羅斯現在將其用於這項新資助的 X 射線光刻研究，但基於它的新設備應該在 2023 年準備就緒。MIET 微系統與電子部主管Nikolai Dyuzhev 表示：我們的項目是一項無可比擬的研究工作，世界上沒有人根據此類原理進行過無掩模光刻技術。前面已經提到這項計劃有望用於加工28nm、16nm及更小的半導體晶圓，但是依託X射線光刻技術，其可能會加工「分辨率優於10nm」的產品，因為X 射線的波長比 EUV 輻射短。X射線光刻研究有望於今年11月正式啟動。到那時，俄羅斯應該已經提出了原型 X 射線光刻機的技術規範和可行性研究。Dyuzhev對此表示，「對於使用新的 X 射線光刻機進行試生產，我們將不得不等待五年或更長時間。」考慮到所有這些，俄羅斯的 X 射線光刻計劃實際上看起來不太可能。然而，它可能會為半導體製造科學提供一些有價值的貢獻。https://www.tomshardware.com/news/russia-semiconductor-plan-28nmhttps://finance.sina.com.cn/tech/2022-04-04/doc-imcwiwss9813063.shtmlhttps://www.cnews.ru/news/top/2022-04-15_u_vlastej_novyj_plan_po_razvitiyuhttps://www.tomshardware.com/news/russia-invests-in-home-grown-x-ray-lithography-techIJCAI 2022 - Neural MMO 海量 AI 團隊生存挑戰賽
4月14日，由超參數科技發起，聯合學界MIT、清華大學深圳國際研究生院以及知名數據科學挑戰平台 AIcrowd 共同主辦的「IJCAI 2022-Neural MMO 海量 AI 團隊生存挑戰賽」正式啟動。
本屆賽事以「尋找未來開放大世界的最強 AI 團隊」為主題，通過在 Neural MMO 的大規模多智能體環境中探索、搜尋和戰鬥，獲得比其他參賽者更高的成就。比賽還設置新的規則，評估智能體面對新地圖和不同對手的策略魯棒性，在 AI 團隊中引入合作和角色分工，豐富了比賽內容，增強了趣味性。
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