OFweek維科網 - 又有新對策？俄羅斯放狠話稱自研7nm光刻機將於2028年問世－鑽石舞台

10月22日消息，一家俄羅斯研究所正在開發自己的半導體光刻設備，該設備可以被用於7nm製程芯片的製造。該研究院稱自行研發的光刻機將於2028年問世，目前該設備正在開發中。

並且，這家俄羅斯研究院表示，當這台光刻機準備好時，它可能會比ASML的Twinscan NXT:2000i工具更高效，後者的開發時間超過了十年。

對於處在設備短缺狀態下的俄羅斯來說，此消息難免有點說大話的意思。據報道，國際制裁對俄羅斯斷供後，造成俄國芯片短缺，加以美國、英國和歐盟也祭出多項制裁，幾乎所有擁有先進晶圓製造商都停止與俄羅斯實體合作，ARM也無法將他們的技術授權給俄羅斯的芯片設計師。

根據俄羅斯下諾夫哥羅德策略發展機構的一份公文顯示，該計劃將在6年內分為三個階段實現：

第一階段：首先要在2024年開發一台alpha機器，驗證系統的全面可靠性。這一階段的重點不在於其工作或解決的高速性，而在於所有系統的全面性。

第二階段：到了2026年，將利用Beta版本取代alpha技術，屆時所有系統都將得到改進和優化，同時分辨率也將得到提升，生產力也將隨之提高，許多操作都將實現機械自動化。這一階段的重點是，要將其集成到實際的技術流程中，並通過「拉起」適合其他生產階段的設備對其進行調試。

第三階段：到了2028年，將完成所有準備工作，並實現原型機生產，屆時將為光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統，並使得這套光刻系統能夠快速準確地工作。

值得一提的是，ASML花了大約9年的時間才在2018年交付其支持7nm和5nm製造的 Twinscan NXT:2000i DUV工具。台積電在其第一代N7製造技術中使用了具有多重圖案的工具。從ASML的產品發展歷程來看，從65nm過渡到7nm用了14年的時間。

有相關專業人士表示，俄羅斯的想法似乎太過天真，俄羅斯想在6年內研發出可支持7nm芯片的光刻機可行性不高，且晶圓廠並非光靠光刻機就可生產出芯片，還需要許多設備，而俄羅斯並不生產這些設備。

俄羅斯科學院微結構物理研究所副所長Nikolai Chkhalo表示：「全球光刻技術領導者 ASML近20年來一直在開發其EUV光刻系統，並且該技術已經證明是非常複雜的。」為科學技術發展。「在這種情況下，ASML的主要目標是保持世界上最大的工廠才需要的極高生產力。在俄羅斯，沒有人需要如此高的生產力。在我們的工作中，我們從國內面臨的需求和任務出發。微電子學——這不是數量，而是質量。首先，我們需要過渡到我們自己的製造工藝，制定自己的設計標準，我們自己的工具、工程、材料，所以我們走自己的道路在這裡是不可避免的。

由此可見，究竟是俄羅斯方面大放豪言還是另有一番作為需要我們後續持續關注！

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