IWAPS
2022
6th International Workshop on
Advanced Patterning Solutions
中國 線上舉辦
Oct. 21-22
本屆國際先進光刻技術研討會被IEEE收錄
會議投稿論文將送檢IEEE Xplore與EI
歡迎大家踴躍投稿報名！
摘要提交截止日期: 2022.07.15
摘要接收通知日期: 2022.08.15
全文稿件截止日期: 2022.09.30
報 名 入 口
官網報名鏈接：
https://www.iwaps.org/cn/index/10
或手機掃碼通過邀請函報名
論 文 征 集
IWAPS致力於發表前沿的微電子製造技術研究成果。會議主題涵蓋先進半導體製造領域中從早期的理論和實驗，到工業化大規模量產的應用等內容。包括但不局限於:
- 光刻
- 極紫外光刻
- 新型技術
- 量測及缺陷檢測
- 設計工藝聯合優化與可製造性設計
- 材料
- 工藝
會議投稿請提交至郵箱：
iwaps_program@ime.ac.cn
Call for paper
Call for paper
2022.07.15
摘要提交截止
Abstract
Deadline
2022.08.15
摘要接收通知
Abstract
Acceptance
Notification
2022.09.30
全文稿件截止
Manuscript
Deadline
本屆會議被IEEE收錄
論文將被送檢IEEE Xplore及EI
我們會在全文版本送檢IEEE Xplore與EI的同時將推薦優秀論文到《Journal of Microelectronic Manufacturing》期刊，作者可以對會議全文擴充理論或實驗內容後投稿到期刊。
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摘 要 要 求
摘要必須清楚地描述論文的性質、研究主題、研究內容、組織結構、要點以及研究意義。且用英文撰寫。
摘要必須包括以下內容：論文標題、關鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字數不應超過500個單詞。對研究內容的細節的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們建議在提交的摘要中使用圖表。
論文摘要模板下載地址：
https://www.iwaps.org/index/10
在截止日期之後提交的摘要將根據具體情況進行審議。
報 告 要 求
口頭報告
被選作進行口頭報告的作者，應當參加2022年的IWAPS 會議並用英文進行15分鐘與論文相關的技術報告。演講者應當預先提供其會議報告的PPT。
海報展示
被選作進行海報展示的作者，可於會議周期內進行電子海報的展示與講解。
會 議 介 紹
近年來，中國集成電路產業蓬勃發展，基於這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平台，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰。
本屆國際先進光刻技術研討會已被IEEE收錄，會議全文將送檢IEEE Xplore與EI。
主 辦 單 位
中國集成電路
創新聯盟
中國光學學會
中國電子學會
承 辦 單 位
中國科學院
微電子研究所
中國光學學會
光刻技術專業委員會
協 辦 單 位
南京誠芯集成電路
技術研究院
技 術 支 持
IEEE電氣和電子工程師協會
組 委 會
General Chair
Secretary General
Program Chair
International Advisory
Committee Members
關 於 IWAPS
2017年IWAPS在北京
鏈接：首屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕
2018年IWAPS在廈門
鏈接：第二屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕
2019年IWAPS在南京
鏈接：第三屆國際先進光刻技術研討會在南京開幕
2020年IWAPS在成都
鏈接：第四屆國際先進光刻技術研討會在成都開幕
2021年IWAPS在佛山
鏈接：第五屆國際先進光刻技術研討會在佛山開幕
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中國 線上舉辦
2022年 10月 21-22日
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