最近，美國對華「斷供EDA」的消息不斷引發熱議。
EDA，即電子設計自動化軟件，涵蓋邏輯設計、電路系統設計、系統仿真、性能分析到設計布線等一系列芯片設計自動化流程。可以說，EDA就是「芯片之母」，沒有EDA，先進芯片設計就無從談起。
實際上，在芯片設計上，西方國家對中國「卡脖子」還算是動手比較晚的，在同樣關鍵的芯片製造上，同樣的封禁政策已經持續了好幾年了。
在核心上講，只要卡死一家企業就行了。
ASML。
2019年，美國政府成功說服荷蘭，禁止ASML將最先進光刻機賣給中國。在過去幾年裡，這家光刻機企業已經成為美國遏制中國半導體產業的關鍵工具。光刻機被廣泛認為是製造最先進芯片的必要條件，它用一種不同的光來定義芯片上的超小電路，將更多的性能裝入小硅片。ASML研發光刻機前後用了幾十年時間，2017年起開始實現大規模量產。光刻機每台造價超過1.5億美元，這個大傢伙運輸需要40個集裝箱、20輛卡車和3架波音747飛機。喬治敦大學安全與新興技術中心的研究分析師威爾-亨特說：如果沒有這個系統，製造商就無法生產先進的芯片，而且 目前只有ASML一家能製造，中國至少需要十年才能建造自己的類似設備。波士頓諮詢公司和美國半導體工業協會今年春天的一項研究估計，創建一個自給自足的芯片供應鏈至少需要1萬億美元。1984年，電子巨頭飛利浦和另一家工具製造商先進半導體材料國際公司創建了ASML，成為一家獨立的公司，也是迄今為止最大的芯片製造設備供應商，該設備涉及一種稱為「光刻」的工藝。利用光刻技術，可以將芯片電路的圖案反覆投射到硅晶圓上。可以添加到單個芯片上的微小晶體管和其他組件越多，功能就越強大，可以存儲的數據也越多。這種微芯片晶體管小型化的趨勢被稱為摩爾定律，以芯片巨頭英特爾的共同創始人戈登·摩爾的名字命名。1997年，ASML開始研究轉向使用極紫外光（EUV）的問題。這種光具有超小的波長，可以打造比傳統光刻技術更微小的電路。ASML決定以此技術為基礎製造機器，自20世紀90年代末以來，涉及EUV技術的開發已耗資80億美元。ASML的開發過程很快走向全球。ASML現在使用德國的鏡子和在聖地亞哥開發的硬件組裝，通過用激光轟擊錫滴來產生光，關鍵化學品和部件則來自日本。ASML首席執行官Peter Wennink說，在公司發展的早期，由於缺乏資金，公司整合了來自專業供應商的發明，創造了一個他稱之為「協作性知識網絡」的快速創新體系。「迫於形勢，對於別人做得更好的事，我們就不做了。」他說。到20世紀80年代初，美國、日本和歐洲的研究人員開始考慮「換光源」。這個概念被一個包括英特爾和其他兩家美國芯片製造商以及能源部實驗室在內的團隊所採納，這些團隊成員組成了EUV LLC聯盟。ASML首席技術官Martin van den Brink表示，經過一年多的談判，ASML於1999年加入這個陣營。ASML的其他合作夥伴包括比利時的Imec研究中心和另一個美國財團Sematech。英特爾、三星電子和台灣半導體製造公司陸續加入。ASML在2007年收購美國Brion，獲取了光刻技術後，成功開啟併購美國光刻企業之路。至此，美國開始在EUV技術方面滲入ASML。2012年，英特爾、三星、台積電共同買入ASML 23%的股權，獲得了ASML光刻機的優先供貨權，成為了利益共同體。截止2020年末，ASML的EUV中有90%零部件來自進口，而且根據ASML加入EUVLLC的承諾，美國零部件需占比55%以上。同時，ASML的前三大股東均來自美國，合計掌握ASML近30%的股權。自從ASML在2017年推出其商用EUV系統以來，客戶已經購買了大約100台。買家包括三星和台積電。台積電使用EUV系統製造蘋果最新的iPhone手機處理器。英特爾和IBM表示，EUV對他們的計劃至關重要。IBM高級副總裁Darío Gil表示：「這絕對是人類建造的最複雜的機器。」荷蘭自2019年起對向中國出口此類機器實施限制，這對ASML的財務上的影響不大，因為它有來自其他國家的積壓訂單。但該公司約15%的銷售額來自於在中國銷售的舊系統。在2021年3月份提交給美國國會和拜登總統的一份最終報告中，美國國家人工智能安全委員會建議，將出口管制範圍也擴大到其他一些ASML的機器。這個委員會旨在限制具有軍事用途的人工智能進展。有專家認為，由於中國已經在使用這些機器，禁運更多額機器對ASML有害，且沒有多少戰略利益可言。「我希望常識能占上風」，ASML首席技術官Martin van den Brink說。http://www.ime.cas.cn/icac/learning/learning_2/202112/t20211221_6324996.htmlhttps://www.nytimes.com/2021/07/04/technology/tech-cold-war-chips.html
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